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器件制備設備

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磁控離子濺射儀
磁控離子濺射儀

產品概述▼

磁控離子濺射儀可用于在柔性電子器件、柔性傳感器件制作環節中制備電極層,鍍金、鉑、銀等金屬電極,也可以用于電鏡樣品制備。

產品特點▼

制備樣品顆粒精細

 可選靶材范圍廣泛

 樣品室空間充足,可單次制備多個樣品

技術參數▼

工作原理

磁控濺射

靶材尺寸

φ57*0.1mm(Pt)

真空室

φ130*130mm高透光高硼硅玻璃

樣品臺尺寸

φ64mm

工作氣體

空氣/氬氣

 保護功能

過流保護,真空保護

技術指標可能會因產品升級完善而改變,實時參數請聯系銷售經理


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